Beam Studio v2.7.3

新增

1. Promark UV 雷射源，並支援 3D 內雕模式。
2. 校正 > 手動輸入 功能，可直接編輯相機預覽偏移、模組偏移及精準對位偏移；魚眼機種亦支援廣角分區偏移與區域漸變調整。
3. 圖層進階設定「雷射頻率」，支援 20–500 kHz（需搭配支援的機種與韌體版本）。
4. Promark 多組場鏡參數設定，各工作範圍可獨立儲存場鏡、振鏡及紅點參數，切換機器時自動套用並檢查參數範圍。
5. 精準對位偏移負值設定，最低支援 −3 mm，可將切割線向內縮以製作出血。
6. 錯誤回報自動上傳功能，發生錯誤時可選擇附上診斷資訊，並可於 設定 > 隱私權 設定每次詢問、自動傳送或不傳送。

更新

1. 全新安裝時，beamo II 4C 墨水匣版本預設為 V2。
2. Windows 防火牆規則改由安裝程式自動加入，啟動程式時不再需要系統管理員權限。
3. 各語言版本的剩餘時間顯示方式。

修正

1. beamo II 相機校正時，門蓋檢查請求堆積導致校正流程卡住的問題。
2. 西班牙文翻譯錯誤的問題。